数学屋ほん舗

【氏名】　深川 容三
【住所】　栃木県 宇都宮市
【学位】　博士（工学）
【経歴】
1975年3月　神奈川県立 湘南高等学校 普通科 卒業
1980年3月　横浜国大 工学部 船舶海洋工学科 卒業
1982年3月　横浜国大 大学院 造船工学専攻 修了(修士)
1982年4月　日揮株式会社 原子力事業本部機械設計部 入社
1990年3月　キヤノン株式会社 厚木中央研究所 入社
2005年9月　東京農工大 大学院 博士号取得
2012年3月　品質管理検定1級 合格
2017年3月　キヤノン株式会社 定年退職
2017年5月　数学屋ほん舗(個人事業主) 開業
2018年3月　合同会社数学屋ほん舗 設立
【経歴説明】
　問題解決に数学を駆使するので「数学屋」と自己紹介しています．得意分野は，統計学，多変量解析，実験計画法，信号処理，数理計画法，計算幾何学，制御工学，機械力学などに関わる現実の問題です．
　長い間取り組んだのはキヤノンでの半導体露光装置でした．最終調整で用いる各種計測方法や誤差分析方法，最適調整法を開発し，重要性能である解像力，重ね合せ精度，生産性の全てに関わりました．最後に，性能予測シミュレータ（バーチャル半導体露光装置）を完成させました．サラリーマン卒業後は，精密機械にモデルベース開発を普及させようと，プラントモデルのパラメータ推定技術に取り組んでいます．
　数学をフルに活用するのですから，工学基礎教育は重視しています．過去には，実戦的な数学手法の社内セミナーを自ら開催しました．受講した方は100名以上になります．私自身は講義することが得意でも好きでもありませんが，理解したい気持ちのある人には，やはり，できるようにしてあげたい．その気持ちは今も変わりません．
　今後は，数学屋としての活躍の場を拡げ，好奇心を搔き立てる面白い課題を求めてゆくと同時に，思想信条の近い数学屋諸氏と協力し，画期的イノベーションを実現したいと考えています． 誰とでも対等かつ真摯に対応することを大切にしています．

【査読付き論文】
(18) 二重正弦波起振法による橋梁の剛性推定
　　深川容三 , 江本久雄
　　土木学会論文集A2(応用力学）2022年78巻1号，23-31
(17) Optimizing Movement Sequences for Step-and-Scan Lithography Equipment
　　SHINANO Yuji , INUI Nobuo , FUKAGAWA Youzou , TAKAKURA Noburu
　　Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing 7(4), 608-618, 2013
(16) 走査型半導体露光装置における移動順最適化
　　乾 伸雄 , 品野 勇治 , 深川 容三 , 高倉 伸
　　日本機械学會論文集. C編 76(770), 2578-2583, 2010-10-25
(15) Optimization of Lens Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment
　　Using Quadratically Constrained and Second-Order Cone Programming
　　SHINANO Yuji , YOSHIHARA Toshiyuki , MIYASHIRO Ryuhei , FUKAGAWA Youzou
　　Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing 4(4), 785-793, 2010
(14) Optimization of alignment in semiconductor lithography equipment
　　MIYASHIRO Ryuhei , FUKAGAWA Youzou
　　Precision engineering 33(4), 327-332, 2009-10-01
(13) 制約2次計画法および2次錐計画法を用いた半導体露光装置用レンズの最適調整
　　品野 勇治 , 吉原 俊幸 , 宮代 隆平 , 深川 容三
　　日本機械学會論文集. C編 75(749), 157-163, 2009-01-25
(12) Optimum Adjustment for Distortion in Semiconductor Lithography Equipment
　　FUKAGAWA Youzou , SHINANO Yuji , NAKAMORI Mario
　　Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing 2(3), 378-384, 2008
(11) Lens System Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment
　　Optimization for Lens Groups Rotation
　　SHINANO Yuji , FUKAGAWA Youzou , TAKANO Yoshimi , YOSHIHARA Toshiyuki
　　Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing 2(5), 844-852, 2008
(10) ステッパーにおけるステージ位置再現性の高精度化
　　深川 容三
　　精密工学会誌 73(5), 611-614, 2007-05-05
(9) 半導体露光装置におけるレンズ調整（群回し調整の最適化）
　　品野 勇治 , 深川 容三 , 高野 義巳 , 吉原 俊幸
　　日本機械学会論文集 C編 73(735), 2982-2987, 2007
(8) 半導体露光装置におけるディストーション調整の最適化
　　深川 容三 , 品野 勇治 , 中森 眞理雄
　　日本機械学會論文集. C編 72(722), 3378-3382, 2006-10-25
(7) 半導体露光装置における重ね合せ誤差の分析
　　深川 容三 , 宮代 隆平 , 中森 眞理雄
　　精密工学会誌論文集 72(10), 1291-1295, 2006-10-05
(6) 半導体露光装置におけるディストーション調整の最適化
　　深川 容三 , 品野 勇治 , 中森 眞理雄
　　日本機械学会論文集 C編 72(722), 3378-3382, 2006
(5) 半導体露光装置におけるディストーション計測の高精度化
　　深川 容三 , 宮代 隆平 , 中森 眞理雄
　　精密工学会誌論文集 71(11), 1410-1414, 2005-11-05
(4)半導体露光装置のステージ格子計測法
　　深川 容三 , 品野 勇治 , 中森 眞理雄
　　精密工学会誌論文集 71(6), 791-795, 2005-06-05
(3) 方形チップ格子上のウェーハ配置最適化(VLSI設計技術とCAD)
　　深川 容三 , 品野 勇治 , 和田 倶幸 , 中森 眞理雄
　　電子情報通信学会論文誌. A, 基礎・境界 J88-A(4), 490-497, 2005-04-01
(2) 欠陥を有する溶接部の信頼性解析 : 第3報
　　板垣 浩 , 豊田 政男 , 深川 容三 , 朝田 洋雄
　　日本造船学会論文集 (152), 459-466, 1983-01
(1) 欠陥を有する溶接部の信頼性解析 : 第2報 諸要因の影響度評価
　　板垣 浩 , 豊田 政男 , 深川 容三 , 真島 篤 , 朝田 洋雄
　　日本造船学会論文集 (150), 526-531, 1981-12

【講演論文】
(7) 誤差の離散性を考慮したレンズ調整のロバスト最適化(離散・組合せ最適化(6))
　　宮代 隆平 , 品野 勇治 , 久保 諭史 , 高野 義巳 , 吉原 俊幸 , 深川 容三
　　日本オペレーションズ・リサーチ学会秋季研究発表会アブストラクト集 2009, 233-234, 2009-09-09
(6) 半導体露光装置における重ね合せ誤差の分析
　　深川 容三 , 宮代 隆平 , 中森 眞理雄
　　精密工学会学術講演会講演論文集 2006A(0), 191-192, 2006
(5) 半導体露光装置におけるロバストなステージ位置計測
　　深川 容三 , 米川 雅見
　　「運動と振動の制御」シンポジウム講演論文集 2005(9), 10-13, 2005-08-22
(4) 半導体露光装置におけるディストーション補正の最適化
　　深川 容三 , 品野 勇治 , 中森 眞理雄
　　設計工学・システム部門講演会講演論文集 2005(15), 268-269, 2005-08-02
(3) 取得チップ数を最大化するウエハ配置(ケース・スタディ)
　　深川 容三 , 品野 勇治 , 和田 倶幸 , 中森 眞理雄
　　日本オペレーションズ・リサーチ学会春季研究発表会アブストラクト集 2005, 230-231, 2005-03-16
(2) 半導体露光装置におけるディストーション計測の高精度化
　　深川 容三 , 宮代 隆平 , 中森 眞理雄
　　精密工学会学術講演会講演論文集 2005A(0), 353-354, 2005
(1) 半導体露光装置のステージ格子計測法
　　深川 容三 , 品野 勇治 , 中森 眞理雄
　　精密工学会学術講演会講演論文集 2005A(0), 351-352, 2005

【国内登録特許】
(26)特許6888771 合同会社数学屋ほん舗 2021年05月24日 登録 特願2019-519832 2017年05月23日出願
(25)特許6557515 キヤノン株式会社 2017年01月05日 登録 特願2015-114158 2015年06月04日出願
(24)特許5969848 キヤノン株式会社 2016年08月17日 登録 特願2012-160940 2012年07月19日出願
(23)特許5681309　キヤノン株式会社 2015年03月04日登録 特願2014-055600 2014年03月18日出願
(22)特許5513325　キヤノン株式会社 2014年06月04日登録 特願2010-196093 2010年09月01日出願
(21)特許5513324 キヤノン株式会社 2014年06月04日登録 特願2010-196091 2010年09月01日出願
(20)特許5418768 キヤノン株式会社 2014年02月19日登録 特願2009-152852 2009年06月26日出願
(19)特許5213406 キヤノン株式会社 2013年06月19日登録 特願2007-261550 2007年10月05日出願
(18)特許4834249 キヤノン株式会社 2011年12月14日登録 特願2001-224170 2001年07月25日出願
(17)特許4789194 キヤノン株式会社 2011年10月12日登録 特願2006-127902 2006年05月01日出願
(16)特許4689081 キヤノン株式会社 2011年05月25日登録 特願2001-170631 2001年06月06日出願
(15)特許4574198 キヤノン株式会社 2010年11月04日登録 特願2004-077044 2004年03月17日出願
(14)特許4298571 キヤノン株式会社 2009年07月22日登録 特願2004-118223 2004年04月13日出願
(13)特許4298002 キヤノン株式会社 2009年07月15日登録 特願平10-121665 1998年04月16日出願
(12)特許4261634 キヤノン株式会社 2009年04月30日登録 特願平10-142090 1998年05月11日出願
(11)特許4250252 キヤノン株式会社 2009年04月08日登録 特願平11-109292 1999年04月16日出願
(10)特許4229348 キヤノン株式会社 2009年02月25日登録 特願平11-171369 1999年06月17日出願
(9)特許3977302 キヤノン株式会社 2007年09月19日登録 特願2003-292921 2003年08月13日出願
(8)特許3962648 キヤノン株式会社 2007年08月22日登録 特願2002-222024 2002年07月30日出願
(7)特許3630807 キヤノン株式会社 2005年03月23日登録 特願平07-333305 1995年12月21日出願
(6)特許3337951 キヤノン株式会社 2002年10月28日登録 特願平09-213876 1997年07月25日出願
(5)特許3135404 キヤノン株式会社 2001年02月13日登録 特願平05-032053 1993年02月22日出願
(4)特公平07-061791 工業技術院長 1995年07月05日登録 特願昭63-186955 1988年07月28日出願
(3)特公平07-051990 工業技術院長 1995年06月05日登録 特願昭63-186957 1988年07月28日出願
(2)特公平06-049470 工業技術院長 1994年06月29日登録 特願昭63-186956 1988年07月28日出願
(1)特公平06-023741 日揮株式会社 1994年03月30日登録 特願昭61-224017 1986年09月22日出願

【海外登録特許】
(17)US-10810340,LLC Suugakuya Honpo,2020/10/20登録,16615942,2017/05/23出願
(16)US-9310695,Canon Inc,2016/04/12登録,14362525,2013/06/25出願
(15)US-8450031,Canon Inc,2013/05/28登録,13222628,2011/08/31出願
(14)US-8811714,Canon Inc,2014/08/19登録,13217558,2011/08/25出願
(13)KR-101419581,Canon Inc,2014/07/14登録,1020110084474,2011/08/24出願
(12)US-8493551,Canon Inc,2013/07/23登録,12892810,2010/09/28出願
(11)KR-0956902,Canon Inc,2010/05/11登録,1020070042292,2007/05/01出願
(10)US-7894039,Canon Inc,2011/02/22登録,11739912,2007/04/25出願
(9)US-7301615,Canon Inc,2007/11/27登録,11627125,2007/01/25出願
(8)US-7346886,Canon Inc,2008/03/18登録,20050253215,2005/04/12出願
(7)US-7230692,Canon Inc,2007/06/12登録,11080407,2005/03/16出願
(6)US-7084957,Canon Inc,2006/08/01登録,10912097,2004/08/06出願
(5)KR-0561759,Canon Inc,2006/03/16登録,1020030052678,2003/07/30出願
(4)US-6947119,Canon Inc,2005/09/20登録,10623542,2003/07/22出願
(3)US-6854105,Canon Inc,2005/02/08登録,10376238,2003/03/03出願
(2)US-6741328,Canon Inc,2004/05/25登録,09983483,2001/10/24出願
(1)US-6330052,Canon Inc,2001/12/11登録,09289721,1999/04/12出願

（2023年07月06日 更新）