解决方案的重点

在专利公报(JP2003-57843,JP4298571,WO2018-216091)中描述了在该站点上提供的半导体的布局优化和纵横比优化的解决方案。 如果您对解决方案的详细信息感兴趣,请参阅它们。 但是,专利公报包含许多数学公式,因此不容易阅读。 因此,在这里我们将解释兴趣点和解决方案的关键点,以找到最佳解决方案。 这样,您将了解此解决方案的优点和缺点。

共同点(有限)

展示位置优化的要点

长宽比优化的要点

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(于2020年1月13日更新)